光刻板-制版

公司产品包括石英掩膜版，光刻板，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。基钢板一般 是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅射的方式镀在夹层玻璃正下方厚约0.1um的铬层。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。运用于集成ic生产制造的光掩膜为高敏感性的铬版。

半导体材料光掩模市场集中度高，垄断竞争市场比较严重，Photronics、大日本国包装印刷株式会社DNP和日本国凸版印刷株式会社Toppan3家占有80%左右的市场占有率。在我国的光掩膜版制造行业仅可以满足中国中低端商品市场需求，高i档光掩膜版则由海外企业立即出示。现阶段，中国的光掩膜版公司关键集中化上海市区、北京市、深圳市及江浙沪地区，他们的销售市场着重点不尽相同。

什么叫光刻掩模版在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。半导体材料集成电路芯片制做全过程一般 必须历经数次光刻工艺，在半导体材料结晶表层的物质层上开掘各种各样夹杂对话框、电级触碰孔或在导电性层上刻蚀金属材料互联图型。光刻工艺必须整套（几片多至十几元）相互之间能精i确套准的、具备特殊图形的光打印掩蔽模板。