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硅片上带了电路原理图的样图后，就到刻蚀机出场，刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。刻蚀机按图工程施工，在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。 集成ic关键是精密度规定高。纳米技术精密度是啥定义呢？生产复杂集成电路的过程可能需要多达50个光刻步骤，而生产薄膜所需的光刻步骤数量将更少。是人们人眼没法辨别的，大约等于一条发丝的5000分之一纳米技术细微。 光刻技术好多个***部件： 灯源：务必平稳、***地出示指 i 定光波长的光线。 动能控制板：就是说开关电源。开关电源要平稳、输出功率要充足大，不然灯源超声波发生器没法平稳工作中。大、稳、一起要考虑到经济发展特性。耗电量太高，顾客就用不了。

掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

接触光刻技术中使用的掩模的表面特征图案的尺寸与实际掩模的尺寸相同。 i 在衬底上形成的图案是1∶1，并且以直接接近光致抗蚀剂层表面的方式曝光 i 光线；丝印网版在应用中特别注意的事宜 线性化就是指调色制板中，规定确保电子计算机中常设置的营业网点值能真实体现到包装印刷胶卷上。另一方面，缩微技术中使用的掩模具有表面特征图案的实际尺寸。 i 在衬底上形成的图案的几次通过光学系统投影模式曝光 i 光明。